除湿机在半导体与制药洁净室的应用
关键字:除湿机,半导体,制药,洁净室
内容摘要:除湿机在半导体与制药洁净室的应用湿气高时,处理困难且使存放时间缩短。为了这些因素,密闭控制相对湿度可提高生产速度与维持产品品质,典型的设计条件为20℃,相对湿度25%。
制造微电路时,会用到称为光阻的吸湿聚合物,用于蚀刻制成的光罩电路线条。如果吸到湿气,微电路将被切断或短接造成电路失效。
另外,在制药过程中,许多粉末是吸湿物质。湿气高时,处理困难且使存放时间缩短。为了这些因素,密闭控制相对湿度可提高生产速度与维持产品品质,典型的设计条件为20℃,相对湿度25%。
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由谢涛于2010-02-05 10:59:52编辑。
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